真空镀膜机
在真空下镀膜的机器
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真空镀膜机是一种需要在较高真空度下进行的镀膜设备，主要包括真空电阻加热蒸发、电子枪加热蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积、离子束溅射等多种类型。其主要思路是将材料分成蒸发和溅射两种方式，通过高温或高能量的方式将材料转化为气态，然后在真空环境下沉积在待处理物体表面，以达到改变物体性质或美化外观的目的。真空镀膜机广 泛应用于电子、光学、化工、医疗等领域。
简介
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。